Araştırma Projeleri Doğrultusunda Bir Çok İşlemi Tek bir Cihazda Yapma İmkanı
SVCS Plazma reaktör sistemi tamamen otomatik, kompakt yapıda, masa tipi, geleneksel dizayna sahip ve özel araştırma ihtiyaçları için üretilmiştir. Çok geniş bir uygulama alanına sahip olan SVCS Plazma Reaktör çok iyi bilinen kaplama, etching ve ashing vb. gibi ARGE işlemlerinde kullanılabilir.
Özellikler;
İşlem ortamındaki dozaj, vakum ve sıcaklık kontrolü birbirlerinden bağımsızdır ve yüksek derecede işlem esnekliği sağlar. İşlem ortamı seçimi geniş bir alana sahiptir. Sadece gazlar için değil aynı zamanda sıvı/buhar reaktifleri içinde hassas elektronik doz miktar kontrolü ve yüksek performanslı evaporator imkanı vardır. Ultra yüksek saflık sistem dizaynı, gazlar ve sıvılar için elektronik kütle akış denetimiyle kullanıcı için hiçbir güvenlik riski oluşturmadan korozif, yanıcı ve toksik ortam kullanılmasına bile olanak sağlar. Plasma RF generator geniş bir frekans aralığı ve güç seviyeleri ile, hem kapasitif hem de endüktif eşleşmiş plazma için bağlı düzenliyici devrelere sahiptir. Kelebek kontrol vanası ve gaz balast sistemi ile Chamber-Hazne basıncı kontrol edilebilir. Dokunmatik panelli kontrol sistemi ile kullanım gereksinimleri doğrultusunda kullanıcılara sınırsız imkanda işlem ayarlanması imkanı sağlar.
Çok Kullanışlı RF Plazma Reaktörü
Çok Kullanışlı RF Plazma Reaktörü Teknik Özellikler
